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990,5% gerador de oxigénio PSA de alta pureza para fabricação de semicondutores

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990,5% gerador de oxigénio PSA de alta pureza para fabricação de semicondutores

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Imagem Grande :  990,5% gerador de oxigénio PSA de alta pureza para fabricação de semicondutores

Detalhes do produto:
Lugar de origem: China
Marca: GNEE
Certificação: SGS
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: ≥1 peças
Detalhes da embalagem: Requst/personalização do cliente
Termos de pagamento: MoneyGram, Western Union, T/T, D/P, D/A, L/C.
Habilidade da fonte: 25 todos os meses

990,5% gerador de oxigénio PSA de alta pureza para fabricação de semicondutores

descrição
Controle fonte de alimentação: 0,2kW 220V 50Hz Saída de oxigênio: ≤ 50 Nm3/h
Peso Líquido: 22kg Tipo de produto: gerador do oxigênio
Ponto de condensação do oxigênio: -40 ℃ ou -60 ℃ Formulário do processo: Adsorção do balanço da pressão (PSA)
Modelo não: Gerador de oxigênio PSA Skid montado: Sim
Pressão de saída: 4~5,5bar Ajustável Usar: Hospitais
Destacar:

gerador de oxigénio PSA de alta pureza

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Instalação de oxigénio PSA para semicondutores

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99Gerador de oxigénio PSA de alta pureza de 0,5% para fabricação de semicondutores
Descrição do produto

Gerador de oxigénio PSA(Gerador de oxigénio de adsorção por oscilação de pressão) é um equipamento limpo fundamental na indústria de fabricação de semicondutores.Obtém uma purificação profunda através de peneiras moleculares de duas camadas (peneiras moleculares comuns + peneiras moleculares de alta pureza) para produzir oxigénio de alta pureza com uma concentração superior a 990,5%.

Possui vantagens essenciais, tais como pureza estável, alta limpeza, funcionamento fiável e zero emissões de poluentes,que pode satisfazer os rigorosos requisitos de pureza e limpeza do oxigénio em processos como a oxidação e a deposição de película fina durante a fabricação de semicondutoresComo configuração de nível superior paraPsa pureza da planta de oxigénio, as impurezas (azoto, umidade, dióxido de carbono, etc.) no oxigénio produzido por este equipamento são todas controladas abaixo do nível de ppm,Evitar uma diminuição do rendimento das fichas causada por uma pureza de oxigénio insuficienteÉ um equipamento essencial de abastecimento de oxigénio para a fabricação de semicondutores.

Parâmetros do produto
Produto (Nm3/h) Consumo efetivo de gás (Nm3/min) Sistema de limpeza do ar Calibre de entrada/saída ((mm)
50.78KJ-1DN25
101.75KJ-2DN25
203.55KJ-6DN40 DN15
305.25KJ-6DN40 DN25
407.0KJ-10DN50 DN25
508.7KJ-10DN50 DN25
6010.5KJ-12DN50 DN32
8013.75KJ-20DN65 DN40
10016.64KJ-20DN65 DN40
15024.91KJ-30DN80 DN40
20033.37KJ-40DN100 DN50
30049.82KJ-60DN125 DN50
990,5% gerador de oxigénio PSA de alta pureza para fabricação de semicondutores 0 990,5% gerador de oxigénio PSA de alta pureza para fabricação de semicondutores 1 990,5% gerador de oxigénio PSA de alta pureza para fabricação de semicondutores 2
Por que a fabricação de semicondutores requer oxigênio de extrema pureza?

A fabricação de semicondutores representa o auge da fabricação de precisão, com processos de chips que entraram na escala do nanômetro (5nm, 3nm).degradação do desempenhoO oxigénio é usado principalmente em processos essenciais como a oxidação (formando camadas de isolamento de SiO2) e a deposição química de vapor (CVD) na fabricação de semicondutores.A pureza do oxigénio afeta diretamente a uniformidade da espessura da camada de isolamento, adesão de filme e desempenho elétrico do chip.

O oxigênio de grau industrial comum (93% de pureza) contém impurezas como nitrogênio e umidade que podem formar defeitos na superfície do chip, levando a uma diminuição de 10-20% no rendimento; em contraste, 99.5% de oxigénio de alta pureza pode controlar o teor de impurezas abaixo do nível de ppm, evitando eficazmente a formação de defeitos e assegurando que o rendimento do chip permanece estável acima de 90%.Gerador de oxigénio PSAA sua utilização pode eliminar profundamente impurezas como o nitrogénio, a umidade e o dióxido de carbono do ar.Psa pureza da planta de oxigénioA precisão de controlo excede muito a dos equipamentos tradicionais de produção de oxigénio, cumprindo plenamente os requisitos do processo de fabrico de semicondutores.

Além disso, a fabricação de semicondutores tem requisitos extremamente elevados de limpeza do oxigénio. O gás de saída deve cumprir a classificação de sala limpa da classe 100 (não mais de 100 partículas ≥ 0.5 μm por pé cúbico de ar). OGerador de oxigénio PSAEstá equipado com um sistema de filtragem de gás de elevada eficiência que pode filtrar partículas minúsculas no oxigénio, evitando a contaminação por partículas na superfície da ficha e garantindo ainda mais a qualidade da ficha.

Guia de Contratação Pública: Critérios de Seleção Básicos para a Indústria de Semicondutores

Ao comprarGerador de oxigénio PSA, as empresas de semicondutores devem aderir a quatro princípios fundamentais: "pureza qualificada, compatibilidade com salas limpas, estabilidade e confiabilidade e qualificações completas dos fornecedores".

  • Em termos de pureza, é imperativo selecionar equipamentos com uma pureza de oxigénio ≥ 99,5% e um teor de impurezas que satisfaçam os requisitos do processo de semicondutores,e exigir que os fornecedores forneçam relatórios de ensaios de terceiros (como a SGS, ITS)
  • Em termos de compatibilidade com salas limpas, é necessário confirmar que a limpeza dos gases de saída do equipamento é ≥ Classe 100 e que o invólucro do equipamento cumpre os requisitos de instalação em salas limpas.
  • Em termos de estabilidade e fiabilidade, deve ser dada prioridade aos produtos com tempo de funcionamento contínuo ≥ 8.000 horas/ano e garantia de componentes principais ≥ 3 anos.
  • As qualificações dos fornecedores são cruciais.Plantas de oxigénio baseadas em PSAQualificações de produção, certificação do sistema de gestão da qualidade ISO9001 e certificações relevantes da indústria dos semicondutores (como a certificação SEMI),e exigir que eles forneçam casos de sucesso na indústria de semicondutores

O serviço pós-venda deve satisfazer os elevados requisitos da indústria dos semicondutores.e fornecimento rápido de peças de reposição para garantir o funcionamento estável do equipamento a longo prazo.

Com a sua vantagem de alta pureza de 99,5%, oGerador de oxigénio PSAA sua precisão de controlo da pureza, a sua capacidade de produção de gás limpo,e desempenho operacional estável pode fornecer suporte confiável de abastecimento de oxigênio para processos de semicondutores, tornando-o um equipamento essencial para as empresas de fabricação de chips para melhorar o rendimento e reduzir os custos.

Além de geradores de oxigênio PSA, também produzimos geradores de oxigênio VPSA, tanques de armazenamento, trocadores de calor e outros produtos.Por favor, sinta-se à vontade para enviar um e-mail paraInformações: info@gneeheatex.comFicaremos muito felizes em servir-lhe.

Contacto
Henan Gnee New Materials Co., Ltd.

Pessoa de Contato: Mrs. Kelly

Telefone: +86 15824687445

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